利用原子层沉积方法低温沉积高水汽阻隔母粒封装薄膜

时间:2019-04-17, 来源:纳琳威纳米科技(上海)有限公司

有机电致发光器件(Organic Light Emitting Device,OLED)在过去的十多年间,已经取得了长足的发展,各种发光材料被不断开发出来,发光强度和效率也达到了实用水平。但OLED产业化还面临着诸多问题,特别是器件的老化问题。

水汽阻隔母粒

普遍认为器件制备封装过程中针孔缺陷的形成为水分、氧气、杂质提供了入侵器件的通道,引起电极材料和发光材料的老化变性,从而降低器件的寿命。OLED的封装技术有很多种,高水汽阻隔母粒主要针对有机材料的弱耐温性,研究应用原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)技术进行低温薄膜封装的方法。在ALD沉积过程中,气相前驱体脉冲交替反应,反应材料通过化学吸附将物质以单原子层的形式逐层沉积在高水汽阻隔母粒衬底表面,此种反应由于具有自限制特性,高水汽阻隔母粒成膜质量受到沉积时的衬底温度、前驱体脉冲时间和抽气时间等参数的影响,国内高水汽阻隔母粒研究机构通过研究在不同制备条件下ALD沉积形成的A1:0。薄膜的物理性质,提出了适合有机电子器件封装的高水汽阻隔母粒薄膜制备新方法。

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